数字微镜器件制造精度误差对紫外光调制特性的影响

袁晓峰; 浦东林; 申溯; 陈林森

数字微镜器件制造精度误差对紫外光调制特性的影响

苏州大学信息光学工程研究所先进光学制造技术教育部重点实验室,江苏苏州 215006

详细信息

通讯作者:
袁晓峰（1987-），男，江苏扬州人，硕士研究生，主要从事微光学制造方面的研究工作

中图分类号: TN29；O438
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出版历程
- 刊出日期: 2012-07-14

Phase modulation properties of digital micromirror device in UV beam

Institute of Information Optical Engineering,Soochow University,Suzhou 215006,China

摘要

摘要: 数字微镜器件（DMD）的能量利用率对于提高无掩膜激光直写系统的效率十分重要。对DMD在相干光照明下的相位调制特性进行数值和实验分析，发现同种型号DMD在出射0级光垂直于微镜表面角度入射情况下的衍射图样，其光能量分布各不相同，有0级光强占总光强27.2%的情况，也有零0级光强占总光强13.1%的情况，理论计算表明，DMD的微镜偏转角存在1的误差可以使DMD衍射0级的衍射效率在极大和极小之间变化。这一结论对于选择高能量利用效率的DMD有重要参考价值。
- 光学器件 /
- 数字微镜器件（DMD） /
- 无掩膜光刻系统 /
- 相位调制 /
- 闪耀光栅
Abstract: In order to improve the optical energy utilization of the maskless lithography system based on digital micromirror device (DMD), the phase modulation properties of DMD at UV laser illumination were investigated. The impact on the phase modulation properties caused by the processing error of DMD was analyzed. The diffraction patterns of three DMDs of the same model at the UV laser illumination were tested, and results showed that their light field distributions were significantly different, the DMD processing error had great impact on the phase modulation properties. This conclusion has great reference significance for choosing DMDs with high utilization efficiency.
- optical devices /
- DMD /
- maskless lithography system /
- phase modulation /
- blazed grating

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参考文献(1)

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